IZ4 - Kolloquium

28.03.2017|11:02 Uhr

 

Hiermit möchten wir recht herzlich zu folgenden Vorträgen im Rahmen des IfP-Kolloquiums einladen:

Band Gap Engineering and Defect Design of Metal Oxides using Molecular Layer Deposition

Mo., 08.05.17, 16:00 Uhr FZH3 Campus Freudenberg

Dr. Roie Yerushalmi

Institute for Chemistry and the Center for Nanoscience and Nanotechnology, The Hebrew University of Jerusalem, Jerusalem 91904, Israel

Weitere Info

und

Hybrid Resistive Memory Elements: Fundamental Considerations and Emerging Device Applications

Mo., 29.05.17, 16:00 Uhr FZH3 Campus Freudenberg

Dr. Sandro Francesco Tedde

Siemens Healthcare GmbH, Strategy & Innovation Technology Center, Basic Medical Technologies, HC SI TC BMT, Günther-Scharowsky-Str. 1, 91058 Erlangen

Weitere Info